介紹
VMM測量顯微鏡系列是觀察、測量和處理系統(tǒng)化的顯微鏡陣容。
特點
● 視場寬闊，可得清晰無閃爍正像
● 高精度測量，同時具有大測量范圍和高精度，適用于各種測量
● 可選用高NA物鏡，滿足長工作距離的測量要求
● 照明裝置（反射/透射）可選用高亮度LED的照明或鹵素照明
● 利用可變孔徑光闌進行無衍射觀察測量
● 各類尺寸的標準工作臺
● 快速釋放裝置便于測量工件大或測量工件數(shù)量多的快速移動工作臺
● 高位目鏡觀察
● 便捷CCD圖像成像，可選配多種CCD數(shù)碼相機
觀察成像
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偏光觀察
觀察過濾后只有一個方向振動的光。適于觀察具有特殊光學特性的材料，如礦石和液晶。 |
微分干涉對比觀察
在檢測金屬、液晶和半導體表面的微小劃痕和階差時很有效。 |
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暗視場觀察
擋住直射到物體上的光，只觀察散射光，通過高對比度能觀察到在亮視場看不到的劃痕和粉末。 |
亮視場觀察
最普通的觀察方式，直接觀察從工件表面反射的光。
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新功能增強Z軸測量精度
● 輔助對焦（FA）
新近研發(fā)的分光棱鏡輔助對焦（FA）提供更銳利的圖案，可在Z軸測量期間提供精確對焦。由于不同物鏡焦深差異導致的測量誤差被降到最低。
規(guī)格
● 無限遠系統(tǒng)，管鏡200mm
● 傾斜角度30°，瞳孔距離55-75mm，正像
● 高眼點，大視場WF10/22
● 鼻輪螺紋M26X0.706
● Z軸的長度180mm，微動精度0.002mm，測量精度（at20℃），XY-軸的（2.5+0.02L）um，L=測量長度（mm）在沒有放物體分辨率為0.001mm
● 12V50W反射鹵素燈
● 3W高亮度LED光源
● 可配置輔助調焦裝置（FA）
技術參數(shù)
型號 |
VMM-8Ⅰ型 |
VMM-8Ⅱ型 |
VMM-8 Ⅲ型 |
VMM-8
Ⅳ型 |
VMM-12Ⅰ型 |
VMM-12Ⅱ型 |
VMM-12Ⅲ型 |
VMM-12
Ⅳ型 |
鏡筒 |
1×光學管徑，雙目目鏡，帶有CCD1/2靶面接口 |
觀察圖像 |
正像 |
觀測方法 |
輔助對焦系統(tǒng) |
- |
- |
頭部或照明器FA系統(tǒng) |
頭部或照明器FA系統(tǒng) |
- |
- |
頭部或照明器FA系統(tǒng) |
頭部或照明器FA系統(tǒng) |
微分干涉對比 |
可選微分觀測對比 |
目鏡 |
10X(視場直徑：25mm)，可選十字分劃板，可選：視場直徑：22mm |
物鏡(100x選配) |
95mm 2x,
5x,10x,
20x,50x |
60mm 5x,
10x,20x,
50x |
95mm 2x,
5x,10x,
20x,50x |
60mm
5x,
10x,20x,
50x |
95mm 2x,
5x,10x,
20x,50x |
60mm 5x,
10x,20x,
50x |
95mm 2x,
5x,10x,
20x,50x |
60mm
5x,
10x,20x,
50x |
照明裝置 |
反射照明 |
內置孔徑光闌，LED光源，無極亮度調節(jié)，可選鹵素照明 |
透射照明 |
白色LED照明，無極亮度調節(jié) |
工作臺 |
XY測量范圍 |
200*100 |
200*100 |
200*100 |
200*100 |
300*200 |
300*200 |
300*200 |
300*200 |
快速釋放裝置 |
X軸和Y軸（標配） |
調零開關 |
X軸和Y軸（標配） |
數(shù)顯計器 |
顯示軸 |
2軸或3軸 |
分辯率 |
0.0005mm（可選0.00002mm） |
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VMM-8-Ⅰ型主圖 |
VMM-8-Ⅱ型主圖 |
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VMM-8-Ⅲ型FA主圖 |
VMM-8-Ⅳ型FA主圖 |
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VMM-12-Ⅰ型主圖-95mm |
VMM-12-Ⅱ型主圖-60mm |
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VMM-12-Ⅲ型FA主圖-95mm |
VMM-12-Ⅳ型FA主圖-60mm |
介紹
95MM金相長工作距離明場物鏡。
特點
● 可見光成像
● 無限遠光學系統(tǒng)，管徑焦距200mm
● 物鏡螺紋M26 x 0.706
技術參數(shù)
平場復消色差M PLAN APO L |
數(shù)值孔徑N.A. |
工作距離W.D. |
焦距f |
景深D.F. |
分辨率R |
視場 |
目鏡(WF10/24) |
1/2"CCD攝像頭 |
2X |
0.055 |
34.6 |
100 |
91μ |
5μ |
Φ12 |
2.4x3.2 |
5X |
0.14 |
45 |
40 |
14μ |
2μ |
Φ4.8 |
0.96x1.28 |
10X |
0.28 |
34 |
20 |
3.5μ |
1μ |
Φ2.4 |
0.48x0.64 |
20X |
0.29 |
30.8 |
10 |
3.5μ |
1μ |
Φ1.2 |
0.24x0.32 |
50X |
0.42 |
20.5 |
4 |
1.6μ |
0.7μ |
Φ0.45 |
0.10x0.13 |
100X |
0.55 |
12.5 |
2 |
0.9μ |
0.5μ |
Φ0.24 |
0.05x0.06 |
介紹
60MM金相平場半復消色差物鏡。
特點
● 可見光成像
● 物鏡螺紋M26 x 0.706
技術參數(shù)
名稱 |
物鏡 |
目鏡(WF10/25) |
數(shù)值孔徑N.A. |
有效工作距離W.D.(mm) |
焦距f′(mm) |
分辨率R(μm) |
物理焦深±Δp(μm) |
物方視場(mm) |
焦點深度±Δ(μm) |
5X |
0.15 |
11.6 |
40 |
2.1 |
16.3 |
Φ5 |
38.3 |
10X |
0.3 |
6.3 |
20 |
0.9 |
3.1 |
Φ2.5 |
7.8 |
20X |
0.4 |
10.3 |
10 |
0.69 |
1.8 |
Φ1.25 |
3.5 |
50X |
0.8 |
2 |
4 |
0.34 |
0.4 |
Φ0.5 |
0.8 |
100X |
0.80 |
1.96 |
2 |
0.34 |
0.2 |
Φ0.25 |
0.6 |
介紹
45MM金相平場消色差明場物鏡。
特點
● 可見光成像
● 無限遠光學系統(tǒng)，管徑200mm
● 物鏡螺紋M20.32
技術參數(shù)
名稱 |
物鏡 |
目鏡(WF10/25) |
數(shù)值孔徑N.A. |
有效工作距離W.D.(mm) |
焦距f′(mm) |
分辨率R(μm) |
物理焦深±Δp(μm) |
物方視場(mm) |
焦點深度±Δ(μm) |
5X |
0.13 |
11.6 |
40 |
2.1 |
16.3 |
Φ5 |
38.3 |
10X |
0.3 |
6.4 |
20 |
0.9 |
3.5 |
Φ2.5 |
7.8 |
20X |
0.4 |
11.1 |
10 |
0.7 |
1.6 |
Φ1.25 |
3.5 |
50X |
0.55 |
8.2 |
4 |
0.5 |
10.9 |
Φ0.5 |
1.4 |
100X |
0.80 |
2 |
2 |
0.4 |
0.4 |
Φ0.25 |
0.7 |
微分干涉介紹
微分干涉DIC在正交偏光的基礎上，插入DIC棱鏡，即可進行DIC微分干涉相襯觀察。使用DIC技術，可以使物鏡表面微小的高低差產生明顯的浮雕效果，極大的提高圖像的對比度。
5X、10X、20X專為DIC設計，使得整個視場的干涉色一致，微分干涉效果非常出色，高倍物鏡DIC效果也較好。
晶元半導體臺階測高顯微鏡，晶元半導體檢測顯微鏡，晶元半導體檢查顯微鏡，半導體測量顯微鏡,FPD檢查顯微鏡，F(xiàn)PD檢測顯微鏡，F(xiàn)PD測量顯微鏡 |
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